회사 소개

퓨릭스의 미션

정밀함을 현실로,
공정을 성과로

우리는 완벽한 공정 제어가 차세대 반도체 제조 경쟁력의 핵심이라고 믿습니다.

CMP, Cleaning, Photo, Etching 등 고난도 공정의 화학용액 농도를 가장 정밀하고 신속하게 제어할 수 있도록 최적의 솔루션을 제공하는 것, 그것이 PURIX의 미션입니다.

우리는 측정 오차와 공정 불확실성의 장벽을 허물고, 고객사가 실시간 데이터의 신뢰를 바탕으로 더 높은 기술적 도약을 이룰 수 있는 환경을 만들어갑니다.

공정이 목표로 하는 완벽한 수율과 미래, PURIX가 탁월한 기술력과 검증된 엔지니어링으로 지원하겠습니다.

공정별 Application 적용 전략

개인과 기업이 잠재력을 최대한 발휘할 수 있도록 지원하는 데 열정을 쏟고 있습니다.
개인 맞춤 전략, 의미 있는 연결, 측정 가능한 결과에 기반한 접근 방식을 제공합니다.

Bulk Chemical Delivery

벌크 공급 라인에 인라인 농도계를 설치해 입고 화학약품의 규격 일치 여부를 실시간 검증하고 오공급으로 인한 설비 파손과 웨이퍼 폐기를 방지합니다.

Chemical & Slurry Blending

MP 슬러리 희석 및 과산화수소(H₂O₂) 등 산화제 혼합 시 실시간으로 농도를 측정하여 최적의 화학 조성 비율을 유지합니다.

Wet Etch Monitoring

고온 KOH 등 식각액의 농도 변화를 실시간 추적하여 정확한 식각 종단점을 판별하고 화학약품 배스(Bath) 수명을 연장합니다.

Wafer Cleaning & Interface

세정 약액(HF, SC-1, DIW 등) 전환 시 계면을 즉각 감지하고 EKC 등 고가 유기 세정제의 수분 함량 관리를 통해 약액 소모를 줄입니다.

CMP Process Control

POU(Point of Use) 디스펜스 라인에서 슬러리 조성을 정밀 제어하여 웨이퍼 표면 스크래치를 방지하고 연마 균일도를 극대화합니다.

Integrated Process Metrology

트랜스미터(Indigo520 등)와 연동해 다중 프로브 데이터 통합 로깅 및 원격 진단을 수행하여 다운타임을 최소화합니다.

반도체 공정제어의 미래, 퓨릭스와 함께 만들어가요

기술 영업

글로벌 커뮤니케이션

해외 본사와의 원활한 기술 질의응답, 영문 매뉴얼/데이터시트 분석 및 납기 조율을 수행할 수 있는 비즈니스 커뮤니케이션 역량

현장 지원 엔지니어

셋업·현장 엔지니어링 지원

장비 납품 후 설비 인터페이스 연동, 통신 및 알람 설정, 초기 셋업 지원 등 필드 엔지니어링 및 기술 지원을 조율·수행하는 역량

복잡한 공정 문제를 해결하는 가장 명확한 실시간 계측 솔루션

까다로운 반도체 Chemical & Slurry 농도 제어를 직관적이고 완벽한 데이터로 단순화합니다.

설계 단계부터 반도체 FAB 기준의 완벽한 신뢰성과 안전성

초고순도 내화학성 재질(PTFE/사파이어) 설계와 비금속(Metal-Free) 구조로 오염 리스크와 설비 손상을 원천 차단합니다.

설계 단계부터 엔터프라이즈급 보안

Your data, models, and workflows are protected by modern security standards. Block-AI is built with privacy, compliance, and reliability at its core.

고객사 공정 조건에 완벽히 최적화된 맞춤형 Application 솔루션

CMP, Cleaning, Photo, Etching 등 각 공정 라인의 배관 구조, 유량, 약액 특성에 맞춘 최적의 인라인 농도계 셋업과 맞춤형 Application 기술지원을 제공합니다. 공정 변동을 사전에 제어하여 수율 극대화와 생산 안정성을 실현합니다.

최적의 솔루션과 통합하기

퓨릭스는 정밀한 실시간 인라인 계측 데이터와 신뢰할 수 있는 엔지니어링 지원으로 반도체 제조 현장의 품질 혁신을 완성합니다.

Product 변천사

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